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光电行业用超纯水设备zl-gd001

光电行业用超纯水设备

光电行业用超纯水设备

  设备参数:
  名称:光电行业用超纯水设备
  型号:zl-gd001
  操作压力:小于1.6(Mpa)
  操作压力:0.3(Mpa)
  水电阻率:18
  出水量:3
  外形尺寸:1000*3000(cm)
  电压:380(V)
  水质:200
  功率:5.5(w)
  电导率:10
  脱盐率:99.7(%)
  单机出力:3(/h)

  新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
  应用场合:
  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏;
  ☆高品质显像管、萤光粉生产;
  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;
  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料;
  ☆实验室和中试车间;
  ☆汽车、家电表面抛光处理;
  ☆光电产品;
  ☆其他高科技精微产品;

光电行业超纯水设备

光电行业超纯水设备

  光电行业水质标准:
  我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

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