光电行业用超纯水设备
设备参数:
名称:光电行业用超纯水设备
型号:zl-gd001
操作压力:小于1.6(Mpa)
操作压力:0.3(Mpa)
水电阻率:18
出水量:3
外形尺寸:1000*3000(cm)
电压:380(V)
水质:200
功率:5.5(w)
电导率:10
脱盐率:99.7(%)
单机出力:3(/h)
新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
应用场合:
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏;
☆高品质显像管、萤光粉生产;
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料;
☆实验室和中试车间;
☆汽车、家电表面抛光处理;
☆光电产品;
☆其他高科技精微产品;
光电行业超纯水设备
光电行业水质标准:
我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。