概述
在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
我们公司专业生产RO+EDI+精混床超纯水设备,有多年的生产经验,尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多各行业的水处理设备,这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势,在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。
在LED生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用超纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质有极高的要求。
生产LED水质标准:我公司LED用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
设备参数
型号:ZL-5012
水电阻率:根据用户要求
电压:380(V)
脱盐率:99.5(%)
加工定制:是
LED光学超纯水设备用超纯水设备对水质的要求:
新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
使用范围
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
典型LED光学超纯水设备用超纯水制备工艺:
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(新工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)
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